清洗單晶硅用的純水可以用超純水設備制取嗎？
文章作者: 宏森環(huán)保
眾所周知，隨著電子產(chǎn)品在人們日常生活的普遍應用，而半導體單晶硅又是設備不可缺少的一種部件，在單晶硅的制作中需要用到大量的工業(yè)純水來進行清洗，如純水的水質達不到一定的標準則將會對電子產(chǎn)品的使用造成一定的影響。
超純水設備是眾多工業(yè)用于純水制造時會優(yōu)秀選擇的一種設備，那清洗單晶硅用的純水可以用超純水設備制取嗎?
超純水設備可采用反滲透技術、去離子技術、edi超純水技術等純水制取工藝，不同的水處理工藝制取的純水電導率是不一樣的，如需工業(yè)需要的水質達到18.2MΩ.cm，則需要進行水處理工藝相結合的方式進行制取。
工業(yè)超純水制取工藝流程：原水預處理—反滲透水處理技術—超純化處理—后級處理，采用這個水處理流程制取的純水水質可達到18.2MΩ.cm。
超純水設備是一種制取的純水電阻率高、水質可達到雜質標準、也不會出現(xiàn)導電的情況，因此是可以用于清洗單晶硅用的純水制取，不僅可用于半導體行業(yè)還可以應用于太陽能電池、實驗室用的純水、制藥工業(yè)、電子設備顯示器、電腦元件等工業(yè)。
如工業(yè)所需的水質無需達到18.2MΩ.cm，在18.2MΩ.cm以下的可以采用其他的水處理工藝流程，具體的水處理工藝流程可到宏森環(huán)保查詢，工程師會根據(jù)要求的水質進行定制流程。
