電子光學用的超純水設備
文章作者: 宏森環(huán)保
電子光學泛指電子試劑、半導體、集成電路芯片加工、硅片清洗、光學鏡片、微電子工業(yè)、大規(guī)模集成電路、光電器件、液晶顯示器屏以及各種高精度線路板等產品的加工，在產品設備加工的過程中需用到大量的工業(yè)純凈水，如這些工業(yè)純凈水沒能達標不僅會直接影響到產品的使用情況而且還會影響使用壽命，下面了解一下關于電子光學用的超純水設備是一款?
不同的電子工業(yè)用到的純水電阻率要求不同，我國將電子工業(yè)所用的純水分為0.5MΩ/CM、12MΩ/CM、15MΩ/CM、18MΩ/CM四個等級。
對于一些半導體、集成電路芯片、液晶顯示器屏面清洗用水、電子試劑用水等用到的純水，如要求純水水質電阻率的要求在18.2兆左右的超純水，則超純水設備需要進行雙級反滲透純化水處理技術+EDI模塊系統(tǒng)相結合的形式，水處理流程：
原水箱—前置增壓泵—砂濾器—碳濾器—軟化器—精密過濾器—一級高壓泵—一級反滲透—一級純水箱—二級高壓泵—二級反滲透—二級純水箱—增壓泵—精密過濾器—紫外線殺菌—EDI系統(tǒng)—EDI超純水箱—超純水增壓泵—拋光混床—微孔膜濾器—用水對象。
設備能根據工廠每小時所用的純水水量、場地安裝、工藝設計進行定制，在建設方所提供的相關技術資料以及技術要求做到無需加入任何的藥劑進行連續(xù)性制取超純水，且設備的自動化程度高、操作起來方便、出水穩(wěn)定。
